体验纳米级制造的威力，利用 TESCAN 的尖端 FIB-SEM 技术快速创建功能器件原型。我们智能高效的系统旨在为各类实验室（从微电子到汽车和科学设备行业）提供纳米原型制作的便利和成本效益。
不要让您的想法停留在纸上。使用 TESCAN 先进的纳米级原型和制造解决方案，将它们变为现实。
利用 FIB 铣削和最广泛的专有气体前驱体选择实现功能器件的纳米级原型制作
Essence™ DrawBeam 可扩展软件模块，用于高精度纳米图形和纳米制造应用
Essence™ DrawBeam 是一款模块化、完全集成的图形发生器，适用于 FIB-SEM 应用，如横截面、TEM 样品制备、原子探针断层扫描或机械测试。DrawBeam 可处理高级操作，如使用聚焦电子束诱导沉积 (FEBID)、聚焦离子束诱导沉积 (FIBID) 和其他用户定义的聚焦离子束 (FIB) 铣削工艺进行绘制和创建复杂结构。
微柱、悬臂和微流体通道等微型和纳米设备原型
微米和纳米级结构原型需要明确定义其形状和铣削策略。无论是纳米原型制作的新手还是高级用户，您都将从专门用于制备复杂纳米结构的丰富的纳米原型制作对象库中获益。
用任何材料制备纳米结构
可在多种材料上加工（或沉积）器件和结构。使用高级功能定义各种 FIB 相关参数，如 Essence™ DrawBeam 中可编辑的多材料数据库等先进功能来定义各种 FIB 相关参数，从而在几乎所有基底材料上实现最大加工深度或沉积高度精度。
制作无人工痕迹的重复纳米结构
结构的最终质量取决于处理重叠对象交叉的策略和项目中对象的顺序。您可以选择串行或并行对象图形化，并选择合并重叠对象，从而获得最高质量的纳米结构。
TESCAN FIB-SEM 专家 PI 和 VisualCoder
用于工作流程开发和自动化的直观软件界面，程序员和非程序员均可使用。
这款功能强大的工具简化了重复性任务，提高了效率，并能为快速原型开发先进的 SEM 和 FIB 成像和铣削策略，所有这些都可在 TESCAN 纳米原型工具箱中实现。它专为满足研究人员和技术人员的需求而设计，提供了灵活的双脚本环境。
Expert PI 提供了一个庞大的 SEM/FIB-SEM 脚本工具库，用于精确控制和定制。
VisualCoder 提供用户友好、基于块的界面，可轻松实现无代码编程。
无论您是要优化成像工作流程，还是要实现复杂流程的自动化，TESCAN FIB-SEM Expert PI 和 VisualCoder 都能为您提供各种工具，帮助您突破纳米原型制作的极限。
提高整体质量，确保 FIB 纳米加工结构（如悬臂）的垂直度
利用获得专利的 TESCAN 摇动平台，可在 X 和 Y 方向上校正任何材料的锥角。这在准备同步加速器样品或纳米级原位机械测试悬臂样品时尤为有效。
TESCAN摇摆样品台
TESCAN 摇台与 TESCAN 纳米制造工作流程完全兼容。因此，它可以提供一个额外的倾斜轴，以减少回火角度造成的几何不对称。
利用电子束曝光技术制作纳米级功能器件原型
结合先进的 EBL 软件和 TESCAN 的快速静电束空白器，执行电子束曝光技术
无论您是经验丰富的专家还是 EBL 的新手，TESCAN 先进的快速电子束闸器都能为您提供完美的解决方案，让您在工作中实现自由创作。
在 GDSII 分层数据格式的全面支持下自信地工作
通过第三方开源软件 Klayout 的插件，轻松定义和修改用于多种技术曝光的预期 EBL 步骤和工作流程。
定制您的 EBL 曝光策略
要在 EBL 设计中实现理想的曝光质量，实地缝合可能是一个主要障碍。因此，TESCAN 提供了一种解决方案，让您可以手动控制实地放置。通过避免缝合错误，您可以使作品达到最佳的最终曝光质量。
优化曝光条件
持续的电子束束流控制和理论电子束光斑尺寸估算使用户能够根据探头直径调整曝光步长。这意味着可以获得曝光结构最平滑的侧壁。
计划使用仪器所需的时间
利用曝光时间估算功能最大限度地提高仪器的使用率。该功能可进行离线曝光模拟，以优化和调试曝光参数，从而使设计更稳健，并缩短在仪器上实际制备时的写入时间。
电子束曝光技术
TESCAN EssenceTMEBL 套装 与 TESCAN 的快速静电束空白器配合使用，为使用 FIB-SEM 进行 EBL 提供了完全集成的解决方案。这不仅为常规成像和分析提供了灵活性，也为纳米制造提供了灵活性。EssenceTMEBL 套装与 FIB-SEM 强大的 FIB 纳米制造引擎相结合，为材料基础研究和应用研究中功能器件的快速原型制造提供了强大的工具。
