灵感纸
通过 TESCAN MIRA XR 深入了解
探索 MIRA XR 的 UHR 成像和高级自动化的全部潜力。下载我们的白皮书，了解其在高通量研究、故障分析和质量控制方面的功能。
TESCAN MIRA XR 的主要优点
更快的超高分辨率数据
Dual Essence™ EDS 和扩展分辨率技术可实现快速、高质量成像，同时缩短分析时间。
高效样品分析
宽视场光学技术（Wide Field Optics™）可将获取数据的时间缩短 30%，从而简化工作流程，快速导航到感兴趣的区域。
无缝处理
复杂样品
MultiVac™ 模式可确保对光束敏感和放气材料进行高分辨率成像，即使没有表面金属样品涂层也是如此。
智能
自动化
In-Flight™ 自动化控制和 Essence™ 软件操作，使所有用户都能使用先进的 SEM 成像技术。
近实时
多尺度分析
MIRA XR 通过完全集成的 Dual Essence™ EDS、Wide Field Optics™ 和 In-Flight™ Automation 加快了数据采集和处理速度。与传统系统相比，它可将获取超高分辨率 SEM 数据的时间缩短至少 30%。
自动对齐和校准程序确保了可重复的结果，只需用户输入最少的信息，从而优化了常规和高级研究应用的效率。
为卓越而设计
性能、应用和可用性：MIRA XR 专为提高每个实验室的成像、分析和工作流程自动化而设计。在此了解它如何优化工作流程的每个步骤。
各种规模的性能
集高分辨率成像、快速元素分析和多功能样品处理于一体的强大系统。
专为学院和工业实验室设计
从失效分析到先进材料研究，MIRA XR 可满足各种科学和工业需求。
智能自动化，
无缝控制
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MIRA XR 通过智能自动化和直观的工作流程简化了高级 SEM 成像。